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高真空电阻蒸发镀膜机

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HZ-400高真空电阻蒸发镀膜机

时间:2018-11-22 22:49:00作者:浏览量:

欢迎各界朋友前来洽谈合作


        HZ-400高真空电阻蒸发镀膜机采用完全封闭的系统框架,外观漂亮,使用安全。4组蒸发源可兼容金属、有机物蒸发。广泛应用于高校材料、物理、化学、电子、能源等相关学科以及科研院所制备高质量功能薄膜、蒸镀电极等,特别适合OPV/钙钛矿/无机薄膜太阳能电池、半导体、有机EL、OLED显示研究与开发领域。

电话:139 8618 6639


产品特点
完全封闭的系统框架设计,外观更漂亮,使用更安全;
前开门真空腔体,方便取放基片、更换蒸发舟、添加蒸发材料以及真空室的日常维护;
分子泵和直联旋片泵,大抽速准无油真空系统;
4组水冷式蒸发电极,可长时间稳定工作,兼容金属材料与有机材料的蒸发源设计,源间有防止交叉污染隔板;
可镀110mm方形基片或15~25mm ITO/FTO玻璃25片,可定制一体化高精度刻蚀掩膜板;基片台转速0~25rpm连续可调;衬底可选择加热或水冷,源基距最大350mm;
可沉积金属(Au, Ag, Al, Ca, Cu, Mg, Fe, Cr, Ni等)、非金属、化合物(MoO3, LiF等)及有机物材料,可拓展沉积单层膜、多层膜及混合膜;
设备集成度高,结构紧凑,占地面积小;设备配脚轮,方便移动和定位;
技术指标

名称型号 HZ-300高真空电阻蒸发镀膜机 HZ-400高真空电阻蒸发镀膜机
真空室 Φ300×H415mm(玻璃钟罩) Φ400×H450mm
玻璃钟罩+304不锈钢真空室底座 304不锈钢真空室,内表面镜面抛光;
真空系统 复合分子泵+合资机械泵
极限真空 优于6.0×10-5Pa
恢复真空时间 达到9×10-4Pa≤20min
蒸发源 2组蒸发源 4组蒸发源,至少2组共蒸;
蒸发电源 2KW,精度0.1A;专业真空蒸发电源,恒流/恒功率控制。
基片台 110mm方形基片或15~25mm ITO/FTO玻璃25片,可定制一体化高精度刻蚀掩膜板;基片台可选择加热(室温~300℃可调可控)或水冷;
电控系统 手动按钮继电器逻辑控制;
报警及保护 完善的程序互锁,完备的防误操作设计及保护;系统缺水、过流过压等异常情况进行报警并执行相应保护措施。
选配 冷却循环水机/膜厚监控仪/基片台加热或水冷/蒸发电源
设备配电 电压AC220V/50HZ;功率≤3.5KW 电压AC380V/50HZ;功率≤6KW
设备尺寸 长×宽1150mm×800mm 长×宽1310mm×860mm