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时间:2018-11-22 22:52:00作者:浏览量:
HZ-300高真空电阻蒸发镀膜机采用大抽速分子泵真空系统,机架电控一体化设计,整体布局紧凑合理。两组蒸发源可兼容金属、有机物蒸发。广泛应用于高校、科研院所制备功能薄膜、蒸镀电极、扫描电镜制样等,特别适合太阳能电池、有机EL、LED显示管研究与开发领域。
电话:139 8618 6639
产品特点
▶玻璃钟罩真空腔室,最直观的蒸发状态和薄膜沉积现象观察;
▶分子泵和直联旋片泵,大抽速准无油真空系统;
▶水冷式蒸发电极,可长时间稳定工作,兼容金属材料与有机材料的蒸发源设计;
▶专业真空蒸发电源,数显工作电流和电压,恒流输出;
▶可镀110mm方形基片或15~25mm ITO/FTO玻璃25片,可定制一体化高精度刻蚀掩膜板;
▶可沉积金属(Au, Ag, Al, Ca, Cu, Mg, Fe, Cr, Ni等)、非金属、化合物(MoO3, LiF等)及有机物材料,可拓展沉积单层膜、多层膜及混合膜;
▶设备集成度高,结构紧凑,占地面积小;设备配脚轮,方便移动和定位;
技术指标
名称型号 | HZ-300高真空电阻蒸发镀膜机 | HZ-400高真空电阻蒸发镀膜机 |
真空室 | Φ300×H415mm(玻璃钟罩) | Φ400×H450mm |
玻璃钟罩+304不锈钢真空室底座 | 304不锈钢真空室,内表面镜面抛光; | |
真空系统 | 复合分子泵+合资机械泵 | |
极限真空 | 优于6.0×10-5Pa | |
恢复真空时间 | 达到9×10-4Pa≤20min | |
蒸发源 | 2组蒸发源 | 4组蒸发源,至少2组共蒸; |
蒸发电源 | 2KW,精度0.1A;专业真空蒸发电源,恒流/恒功率控制。 | |
基片台 | 110mm方形基片或15~25mm ITO/FTO玻璃25片,可定制一体化高精度刻蚀掩膜板;基片台可选择加热(室温~300℃可调可控)或水冷; | |
电控系统 | 手动按钮继电器逻辑控制; | |
报警及保护 | 完善的程序互锁,完备的防误操作设计及保护;系统缺水、过流过压等异常情况进行报警并执行相应保护措施。 | |
选配 | 冷却循环水机/膜厚监控仪/基片台加热或水冷/蒸发电源 | |
设备配电 | 电压AC220V/50HZ;功率≤3.5KW | 电压AC380V/50HZ;功率≤6KW |
设备尺寸 | 长×宽 1150mm×800mm | 长×宽:1280mm×860mm |