时间:2018-12-05 11:46:00作者:浏览量:
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HZ-300高真空电阻蒸发镀膜机采用大抽速分子泵真空系统,机架电控一体化设计,整体布局紧凑合理。两组蒸发源可兼容金属、有机物蒸发。广泛应用于高校、科研院所制备功能薄膜、蒸镀电极、扫描电镜制样等,特别适合太阳能电池、有机EL、LED显示管研究与开发领域。
产品特点
▶玻璃钟罩真空腔室,最直观的蒸发状态和薄膜沉积现象观察;
▶分子泵和直联旋片泵,大抽速准无油真空系统;
▶水冷式蒸发电极,可长时间稳定工作,兼容金属材料与有机材料的蒸发源设计;
▶专业真空蒸发电源,数显工作电流和电压,恒流输出;
▶可镀110mm方形基片或15~25mm ITO/FTO玻璃25片,可定制一体化高精度刻蚀掩膜板;
▶可沉积金属(Au, Ag, Al, Ca, Cu, Mg, Fe, Cr, Ni等)、非金属、化合物(MoO3, LiF等)及有机物材料,可拓展沉积单层膜、多层膜及混合膜;
▶设备集成度高,结构紧凑,占地面积小;设备配脚轮,方便移动和定位;
技术指标
名称型号
HZ-300高真空电阻蒸发镀膜机
HZ-400高真空电阻蒸发镀膜机
真空室
Φ300×H415mm(玻璃钟罩)
Φ400×H450mm
玻璃钟罩+304不锈钢真空室底座
304不锈钢真空室,内表面镜面抛光;
真空系统
复合分子泵+合资机械泵
极限真空
优于6.0×10-5Pa
恢复真空时间
达到9×10-4Pa≤20min
蒸发源
2组蒸发源
4组蒸发源,至少2组共蒸;
蒸发电源
2KW,精度0.1A;专业真空蒸发电源,恒流/恒功率控制。
基片台
110mm方形基片或15~25mm ITO/FTO玻璃25片,可定制一体化高精度刻蚀掩膜板;基片台可选择加热(室温~300℃可调可控)或水冷;
电控系统
手动按钮继电器逻辑控制;
报警及保护
完善的程序互锁,完备的防误操作设计及保护;系统缺水、过流过压等异常情况进行报警并执行相应保护措施。
选配
冷却循环水机/膜厚监控仪/基片台加热或水冷/蒸发电源
设备配电
电压AC220V/50HZ;功率≤3.5KW
电压AC380V/50HZ;功率≤6KW
设备尺寸
长×宽 1150mm×800mm
长×宽:1280mm×860mm